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在真空電鍍加工工作方式主要有兩種，真空蒸鍍與真空濺鍍。下面簡單介紹一下這兩種方式。
真空蒸鍍是將工件裝入電鍍機內，然後將室內空氣抽走，達到一定的真鋁表面處理空度後，將室內的鎢絲通電加熱。當達到一定的溫度後，鎢絲上所放置的金屬絲氣化，然後隨著室內的工件的轉動均勻硬陽處理的沉積在工件表面，形成金屬膜。一般常見的電鍍用金屬有鋁、鎳、銅等等。但由於熔點，工藝控制等方面的原因，鍍鋁成為最流行的做法。
真空濺鍍主要利用輝光防電將氬氣AR離子撞擊靶材表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄電鍍膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來得好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢的多。新型陽極處理的濺鍍設備幾乎都是用磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊發色處理幾率增加，提高濺鍍速率。
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